研究团队开发出一种基于印刷的选择性金属薄膜沉积技术，可以轻松快速地制造各种形式的高性能软电子器件和电路。

这项研究成果发表在《自然通讯》杂志上。该团队由电气与计算机工程系的YongtaekHong教授领导，与大邱庆北科学技术研究院(DGIST)电气工程与计算机科学系的ByeongmoonLee教授合作。

利用蒸镀法形成的金属薄膜具有优异的导电性和表面质量，是电子设备和电路的关键元件。然而，将这些金属薄膜图案化为所需形状通常需要使用荫罩或光罩等刚性掩模，这使得图案难以修改，并限制了在各种形状的表面上进行加工的能力。

为了解决这一问题，研究团队开发了一种基于印刷的选择性金属薄膜沉积技术。该方法利用聚合物图案来阻止金属蒸汽的凝结，从而允许同时进行气相沉积和图案化过程，而无需单独的掩模。这种方法可以大规模生产线宽从微米(μm)到毫米(mm)的图案。

研究团队表示，聚合物图案具有出色的可拉伸性和机械耐久性，因此可以轻松在多曲率或弹性基板上形成金属薄膜图案，而这在传统方法中是无法实现的。在研究过程中，他们通过使用各种形状的金属薄膜展示了下一代自由形态电子设备和电路，包括无线电力传输、曲线OLED(有机发光二极管)和可拉伸LED阵列。

YongtaekHong教授表示：“这项研究不仅开发了一种基于气相沉积的易于定制的高性能金属薄膜图案的技术，而且为通过将这项技术应用于弯曲和可拉伸系统，最大限度地发挥金属薄膜在软电子领域的效用奠定了基础。

“未来，这种选择性金属薄膜沉积技术有望直接应用于在OLED面板的顶部公共电极中形成多孔透明结构，这是需要各种外形尺寸的显示屏下摄像头和显示屏下人脸识别传感器技术的关键元件。”

同时，该论文的共同第一作者SujinJeong博士和HyungsooYoon博士目前正在三星显示研究中心工作，专注于开发下一代未来显示器，包括可拉伸显示器。